“世界初”ルチル型二酸化ゲルマニウム薄膜にてN型導電性を確認

Patentix株式会社はこの度、ドーパント不純物を添加することによりルチル型二酸化ゲルマニウム(r-GeO2)薄膜のN型伝導性を世界で初めて確認しました。この成果により、本格的な半導体デバイスの開発を開始すること…

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